摘要：本實用新型公開了一種用于化學氣相沉積的高溫加熱沉積臺，屬于材料制備加工領域。本實用新型改進了加熱式沉積臺的設計，在沉積臺臺面的內表面鍍覆了一層100nm的氧化鉻薄膜，利用氧化鉻0.8的黑體系數提高了沉積臺臺面接收熱輻射的效率。同時，對于密封在沉積臺內部的加熱體，其絕緣體支撐件被設計成陶瓷柱陣列，在不影響支撐功能的同時，提高了加熱體的散熱效率。這些改進使得這種新型的高溫加熱沉積臺的加熱效率與穩定性得以大幅提高，并可以在700℃～1000℃溫度段內持續穩定工作，填補了加熱式沉積臺在高溫段的技術缺口。
- 專利類型實用新型
- 申請人北京泰科諾科技有限公司;
- 發明人陳良賢;彭建;施戈;
- 地址102212 北京市昌平區崔村鎮西辛峰村南6區1號
- 申請號CN201320699640.7
- 申請時間2013年11月06日
- 申請公布號CN203625466U
- 申請公布時間2014年06月04日
- 分類號C23C16/46(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I;
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