摘要：本發明公開了一種用于真空杯內壁鍍膜的二極濺射鍍膜設備，包括支架、濺射鍍膜裝置、真空裝置，其中濺射鍍膜裝置設置于支架上，真空裝置與濺射鍍膜裝置一端連接，濺射鍍膜裝置中設有若干杯具工裝，可匹配不同的濺射電極，本發明的有益效果是：適用于不同大小和形狀的真空杯，設備結構簡單好維護，連續性好，多工件同參數加工，生產效率高且鍍層質量的一致性好，另外，由于濺射電極可自由更換，沉積溫度等關鍵參數可任意調整，鍍層質量和組分可調整，而且一旦未來開發出更先進的抑菌鍍層，這種設備將十分有利于新抑菌鍍層的更新換代和快速形成產業化。
- 專利類型發明專利
- 申請人北京泰科諾科技有限公司;
- 發明人施戈;彭建;陳良賢;
- 地址102212 北京市昌平區崔村鎮西辛峰工業園村南6區1號
- 申請號CN201410765333.3
- 申請時間2014年12月11日
- 申請公布號CN104388905A
- 申請公布時間2015年03月04日
- 分類號C23C14/36(2006.01)I;
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