摘要：本實用新型提出一種基質輔助激光解析離子源進樣裝置，該裝置包括樣品托盤；密封腔，密封腔內具有第一真空度；真空腔，真空腔內具有高于第一真空度的第二真空度，真空腔與密封腔相連且通過真空腔的前密封板與密封腔隔開；設在密封腔一側、用于將樣品托盤送入密封腔內且從密封腔內輸送到真空腔內的第一級進樣組件；設在真空腔內且用于從第一級進樣組件接納樣品托盤并將樣品托盤輸送至真空腔內的檢測位置的第二級進樣組件；密封門組件，密封門組件可打開和關閉地設在真空腔的前密封板上；和真空泵，由此，根據本實用新型的進樣裝置，能夠將樣品從常壓環境平穩地送入高真空環境內且使樣品在進樣過程中逐漸適應真空度，保證樣品的檢測質量。
- 專利類型實用新型
- 申請人江蘇天瑞儀器股份有限公司;
- 發明人蔡克亞;陶占清;周立;
- 地址215300 江蘇省蘇州市昆山市中華園西路1888號天瑞產業園
- 申請號CN201220117195.4
- 申請時間2012年03月26日
- 申請公布號CN202649168U
- 申請公布時間2013年01月02日
- 分類號G01N27/64(2006.01)I;
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