摘要：本發明公開了一種用于解析離子源進樣裝置的舉靶頂靶機構，包括頂靶機構和舉靶機構，舉靶機構具有舉靶平臺，舉靶平臺在進靶過程中向上托舉且在退靶過程中向下回退，頂靶機構具有頂靶部件，頂靶部件在進靶過程中向上頂且在退靶過程中向下回退，舉靶機構具有定位桿，頂靶機構具有滑動部件，滑動部件滑動安裝在定位桿，頂靶機構固定安裝在安裝在舉靶機構上的托塊上；本發明提供的舉靶頂靶機構實現了樣品能夠先進行一種低真空過度，進而再進入高真空的過程，具有操作靈活和便捷的優點。
- 專利類型發明專利
- 申請人江蘇天瑞儀器股份有限公司;
- 發明人劉召貴;徐鵬登;周立;
- 地址215347 江蘇省蘇州市昆山市玉山鎮中華園西路1888號天瑞產業園
- 申請號CN201610405698.4
- 申請時間2016年06月12日
- 申請公布號CN106066360A
- 申請公布時間2016年11月02日
- 分類號G01N27/64(2006.01)I;
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