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          一種WS2-MoS2-C復合負極材料及其制備方法

            摘要:本發明公開了一種WS2-MoS2-C復合負極材料及其制備方法,該材料表示為如下結構式:(WS2)x(MoS2)yCz,由納米級WS2、納米級MoS2以及納米級石墨顆粒復合而成,其中,納米級WS2和納米級MoS2的粒徑為10-60nm,納米級WS2和納米級MoS2均勻分布于石墨基體中且被石墨基體包覆,結構式中的x、y和z分別表示WS2、MoS2以及石墨在所述復合負極材料中的質量百分比,且x、y和z同時滿足以下關系:x+y+z=1,(x+y)/z≥1,x≠0,y≠0。該復合負極材料以二硫化鎢粉、二硫化鉬粉和石墨粉作為原料,采用機械球磨法獲得。材料有比較大的比表面積,具有良好電化學性能。
          • 專利類型發明專利
          • 申請人安泰科技股份有限公司;
          • 發明人曾宏;武英;趙?;?周少雄;
          • 地址100081 北京市海淀區學院南路76號
          • 申請號CN201410778600.0
          • 申請時間2014年12月15日
          • 申請公布號CN104577063A
          • 申請公布時間2015年04月29日
          • 分類號H01M4/36(2006.01)I;H01M4/58(2010.01)I;H01M4/62(2006.01)I;H01M10/0525(2010.01)I;B82Y30/00(2011.01)I;
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