摘要：本發明公開了一種WS2帶孔納米片/石墨烯復合納米材料及其制備方法，其由WS2帶孔納米片與石墨烯復合構成，WS2帶孔納米片是單層或少層數的，WS2與石墨烯之間的物質的量之比為1:1?1:3。其制備方法是首先將氧化石墨烯超聲分散在去離子水中，再加入陽離子型柱[5]芳烴超分子，并充分攪拌，然后依次加入L?半胱氨酸和硫代鎢酸銨，充分攪拌使其溶解，將上述混合分散體系轉移到水熱反應釜中，于230?250℃下水熱反應20?24?h后，自然冷卻至室溫，離心收集固體產物，洗滌、干燥、熱處理獲得。本發明的方法具有簡單、方便的特點，不需要消耗有機溶劑。
- 專利類型發明專利
- 申請人浙江大學;
- 發明人陳衛祥;葉劍波;馬琳;王臻;
- 地址310027 浙江省杭州市浙大路38號
- 申請號CN201410339886.2
- 申請時間2014年07月17日
- 申請公布號CN104091932B
- 申請公布時間2016年09月14日
- 分類號H01M4/36(2006.01)I;H01M4/139(2010.01)I;B82Y30/00(2011.01)I;B82Y40/00(2011.01)I;
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