摘要:本發明公開了一種多邊緣MoS2納米片/石墨烯復合納米材料及其制備方法,其是由少層數的多邊緣MoS2納米片與石墨烯復合構成,MoS2與石墨烯之間的物質的量之比為1:1?1:4。其制備方法是首先將氧化石墨烯超聲分散在去離子水中,再加入離子液體,并充分攪拌,然后依次加入L?半胱氨酸和鉬酸鈉,充分攪拌使其溶解,將上述混合分散體系轉移到水熱反應釜中,于230?250℃下水熱反應24?h后,自然冷卻至室溫,離心收集水熱固體產物,經洗滌、干燥、熱處理,制備得到多邊緣MoS2納米片/石墨烯復合納米復合材料。本發明的方法具有簡單、方便的特點,易于擴大工業化應用的優點。所制備的復合納本材料具有廣泛的應用。
- 專利類型發明專利
- 申請人浙江大學;
- 發明人陳濤;陳衛祥;馬琳;孫虎;葉劍波;陳倩男;吳慶銀;
- 地址310027 浙江省杭州市浙大路38號
- 申請號CN201410339879.2
- 申請時間2014年07月17日
- 申請公布號CN104091931B
- 申請公布時間2017年01月11日
- 分類號H01M4/36(2006.01)I;B82Y30/00(2011.01)I;B82Y40/00(2011.01)I;