摘要：本發明涉及一種白光干涉測量樣品表面形狀精細分布的方法及裝置。其方法是將一束白光分別投射到樣品和參考鏡表面，兩表面反射光再合成一束光投射在CCD相機感光面形成干涉條紋；通過改變樣品和物鏡的間距，在感光面上形成多幅干涉圖像，輸入計算機后得到振幅調制信號與光源的光譜分布相關的余弦函數的分布，通過非等間隔時間采樣方法采得若干振幅調制信號的離散值，進而求得樣品表面的相對高度。測量裝置由光源、半反半透分光鏡、CCD相機、干涉顯微物鏡和樣品臺等組成，分光鏡將光源光束分為反射和透射兩束光，CCD相機和干涉顯微物鏡分別設在其透射和反射光軸方向上，CCD相機與計算機控制連接，干涉顯微物鏡可由計算機控制做上下移動。
- 專利類型發明專利
- 申請人北京普瑞微納科技有限公司;
- 發明人張民芳;成武;
- 地址100190 北京市海淀區中關村東路95號8號樓415室
- 申請號CN200710018030.5
- 申請時間2007年06月12日
- 申請公布號CN101324422B
- 申請公布時間2011年01月19日
- 分類號G01B9/023(2006.01)I;G01B11/24(2006.01)I;
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