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          成都真空設備廠家 Research-磁控濺射鍍膜機 共濺射直流射頻兼容 磁控濺射系統 可定制

          成都真空設備廠家 Research-磁控濺射鍍膜機 共濺射直流射頻兼容 磁控濺射系統 可定制
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          產品報價: 1200000
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          超邁光電
          CM-010
          高教 職教
          詳細說明

            ●該設備用于納米級單層或多層膜、類金剛石薄膜、金屬膜、導電膜、半導體膜和非導電膜等功能薄膜的制備,可實現共濺射,直流、射頻兼容,特別適于科研院所和企業進行功能薄膜研發、教學和新產品開發,同時可在微米級粉末或顆粒上沉積薄膜進而達到表面改性的功能。是替代鐘罩式磁控濺射的理想選擇。

            ●主體結構:全封閉框架結構,機柜和主機為一體式機構。

            ●極限真空度:≤6.63×10-5Pa。   

            ●真空配置:高速直聯旋片泵一臺,配置尾氣處理裝置,超高分子泵一臺。

            ●真空測量:兩路電阻規,一路電離規;電阻規和電離規均采用防爆型金屬封結真空規。

            ●工件架系統:行星工件盤與公轉工件盤可選,垂直濺射與共濺射兼容,可配置1個加熱臺,采用PID控制可烘烤加熱到700℃。

            ●磁控濺射系統:配置3個Φ50mm可折疊磁控靶(可擴展至4靶機構),向上濺射成膜;靶基距可調;靶內均通入冷卻水冷卻。

            ●電源:2套直流電源;1套全固態射頻電源;一套200W直流偏壓電源。

            ●充氣系統:配置三路供氣,二路分別配置質量流量控制器,線性±0.5 % F.S,重復精度±0.2% F.S,0-5V輸出,在觸摸屏上設置流量。

            ●電氣控制系統:采用功能化模塊設計,匹配西門子人機界面+西門子控制單元,濺射時間可以設定并倒計時,能夠根據工藝需求自動濺射。

            ●特別說明:根據用戶不同的工況和工藝要求,公司愿與客戶聯合研發,共享知識產權,公司致力于工藝與設備的完美匹配,該設備為公司與電子科技大學聯合研發。

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