擴散爐應用于大規模集成電路、電力電子器件、光電子器件、半導體器件、光導纖維及太陽能電池等行業的氧化、擴散、燒結、合金等工藝，可用于3-12英寸工藝尺寸。
主要技術指標：
爐管數：1～4管
配工藝管口徑：Φ90～360 mm (3～12英寸)
恒溫區長度：760～1000 mm±1.0℃ (300～800℃) 760～1000 mm±0.5℃(800～1280℃)
單點穩定性：±1.0℃/24h (300～800℃) ±0.5℃/24h (800～1280℃)
氣源路數：≤7路，可配恒溫源瓶、氫氧合成點火器
氣體控制：浮子/質量流量計
懸臂舟參數：速度：20～1000 mm/min 行程：2000 mm 定位精度：±1 mm 載荷：17 Kg
超凈工作臺：凈化等級：100級（萬級廠房）
噪音：≤62dB（A）
振動：≤3μm
設備特點：單元組合方式。根據工藝的不同，可以在主機的基礎上配氣源柜、超凈工作臺、懸臂推拉舟等。
晨立擴散爐設備,技術和質量已達國際水平,受到半導體設備制造企業和半導體行業高度關注.可完全替代國外同規格產品滿足不同工藝的要求。
