我公司專為科研院所及實驗室用戶群體設計開發的一款小型高真空蒸發鍍膜系統。采用大抽速分子泵準無油高真空系統，機架電控一體化設計，整體布局緊湊合理，充分考慮人機工程學的傾斜操控面板和可直觀觀察蒸發狀態的玻璃真空室結構相得益彰。兩組/三組蒸發源可兼容金屬、有機物蒸發。廣泛應用于高校、科研院所制備功能薄膜、蒸鍍電極、掃描電鏡制樣等，特別適合太陽能電池、有機EL、LED顯示管研究與開發領域。
主要特點/優勢：
★ 玻璃鐘罩真空腔室，可直觀的蒸發狀態和薄膜沉積現象觀察；
★ 復合分子泵和直聯旋片泵，大抽速準無油真空系統（分子泵抽速≥400L/S）；
★ 兩組水冷式蒸發電極，可長時間穩定工作，兼容金屬材料與有機材料的蒸發源設計；
★ 專業真空蒸發電源，數顯工作電流和電壓，恒流輸出；
★ 可定制一體化高精度刻蝕掩膜板；
★ 襯底可選擇加熱或水冷，源基距≥300mm；
★ 可調速旋轉靶臺使薄膜更均勻
★ 可沉積金屬（Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等）、非金屬、化合物（MoO3, LiF等）及有機物材料，可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜；
★7寸顯示器定時定點調節電流，達到控制功率效果
★具有記憶儲存功能，直接調出已儲存的數據進行鍍膜達到同樣工藝效果
★配置了靶臺擋板，可手動調節或自動調節擋板，及時遮擋樣品，保證樣品效果
