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          晶圓處理設備(多腔室堆棧式)

            摘要:1.本外觀設計產品的名稱:晶圓處理設備(多腔室堆棧式)。2.本外觀設計產品的用途:用于銅工藝的互連階段,多孔性低介電常數材料集成的清洗。主要去除光刻膠殘留、顆粒、通孔內的有機聚合物以及硅片邊沿和背面的銅金屬。3.本外觀設計的設計要點:在于產品的形狀。4.指定一幅最能表明設計要點的圖片或照片:主視圖。
          • 專利類型外觀專利
          • 申請人北京七星華創電子股份有限公司;
          • 發明人趙宏宇;孫文婷;張豹;王銳廷;初國超;
          • 地址100015 北京市朝陽區酒仙橋東路1號M2樓2層
          • 申請號CN201430353013.8
          • 申請時間2014年09月23日
          • 申請公布號CN303151539S
          • 申請公布時間2015年04月01日
          • 分類號15-05(9);
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