摘要:本實用新型公開了一種逆反射標志測量儀,其技術方案要點是包括光學暗箱和光源,光源設置在光學暗箱內,光學暗箱的表面設置有開口,開口處設置有遮擋開口的試樣,光學暗箱上設置有調節槽,調節槽內設置有對試樣反射的光進行引出的光纖,光纖連接有對光纖引出的光進行檢測的光探測器,調節槽處設置有固定組件,光纖通過固定組件與光學暗箱可拆卸固定連接,達到了方便進行多角度測量的目的。
- 專利類型實用新型
- 申請人北京中交工程儀器研究所;
- 發明人楊宗文;
- 地址102600 北京市大興區黃村鎮劉一村委會西500米
- 申請號CN201620340310.2
- 申請時間2016年04月21日
- 申請公布號CN205620301U
- 申請公布時間2016年10月05日
- 分類號G01N21/47(2006.01)I;