摘要：平面擺式干涉儀，包括光源，光源后的光路上依次設有將光源發出的光準直為平行光的第一準直鏡，以及將平行光分成兩束光的分束器，兩束光一束為反射光，另一束為透射光，于分束器一側的反射光的光路上，依次設有將反射光反射到第一角鏡的第一平面鏡，以及將反射光原路反射回分束器的第一角鏡，于分束器另一側的透射光的光路上，依次設有將透射光反射到第二角鏡的第二平面鏡，以及將透射光原路反射回分束器的第二角鏡，第一角鏡和第二角鏡之間設有能夠轉動的扭曲軸承，使第一角鏡和第二角鏡擺動產生光程差，于分束器另一側形成干涉光，分束器另一側設有將干涉光匯聚到探測器的焦點上的第二準直鏡。本實用新型光學效率相對提高1.33倍，穩定性好。
- 專利類型實用新型
- 申請人北京瑞利分析儀器有限公司;
- 發明人高學軍;龔蓉曄;王百華;劉志國;楊海山;武惠忠;彭海英;王文智;
- 地址100016 北京市朝陽區酒仙橋東路9號A5樓
- 申請號CN201220252267.6
- 申請時間2012年05月30日
- 申請公布號CN202631111U
- 申請公布時間2012年12月26日
- 分類號G01J3/45(2006.01)I;
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