摘要：本發明公開了一種投影融合暗場處理方法，包括：確定暗場處理參數，在接收到輸入圖像后，根據輸入圖像中的每個像素點的位置信息，獲取位于暗場處理區域內的像素點；根據暗場處理區域內的各個像素點的亮度信息，獲取位于暗場處理亮度范圍內的像素點；根據暗場處理亮度范圍內的各個像素點的顏色信息，依次獲取對應顏色的暗場疊加曲線，并分別從暗場疊加曲線上獲取與各個像素點的亮度值對應的各個暗場疊加值；分別將各個暗場疊加值附加在相應的像素點當前的亮度值上，以得到暗場處理后的像素點。本發明還公開了一種融合設備。本發明實現了對暗場像素點的亮度進行精準地調整，提高了投影融合暗場處理的效率及改善圖像顯示效果。
- 專利類型發明專利
- 申請人深圳市創凱智能股份有限公司;
- 發明人馬超;李志鴻;
- 地址518000 廣東省深圳市南山區西麗街道科技園北區松坪山新西路7號蘭光科技大樓B座212單位
- 申請號CN201510752772.5
- 申請時間2015年11月06日
- 申請公布號CN105430365A
- 申請公布時間2016年03月23日
- 分類號H04N9/31(2006.01)I;
教育裝備采購網在線客服
京公網安備11010802043465號
