摘要：本發明公開了一種二相流霧化噴射清洗裝置及清洗方法，通過在噴嘴主體內設置帶有預設角度的液體導向出口的多路液體分流管路，以及帶有垂直氣體導向出口的出氣網板，可使噴射出的高速液體流與高速氣體流產生充分地相互作用，形成顆粒尺寸均一、可調的超微霧化液滴，并在霧化顆粒導向出口的加速及導向作用下向下噴向晶圓表面進行移動霧化清洗，本發明可大大縮小霧化顆粒尺寸，減小其具有的能量，從而可避免對晶圓表面圖形結構造成損傷，并可提高清洗質量和效率，節約清洗成本。
- 專利類型發明專利
- 申請人北京七星華創電子股份有限公司;
- 發明人滕宇;李偉;
- 地址100016 北京市朝陽區酒仙橋東路1號
- 申請號CN201510917538.3
- 申請時間2015年12月10日
- 申請公布號CN105413905A
- 申請公布時間2016年03月23日
- 分類號B05B7/04(2006.01)I;B08B11/00(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I;B08B13/00(2006.01)I;
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