摘要：本發明提供一種導電圖案的形成方法，包括：提供襯底；在襯底的表面的預設形成導電圖案的部分形成親水區域，在襯底的表面的剩余部分形成疏水區域，其中親水區域具有與待形成的導電圖案一致的圖案；通過選擇性生長，在親水區域上形成導電納米線層或導電納米粒子層以形成導電圖案。根據本發明實施例的導電圖案的形成方法，可以避免使用相關技術中采用刻蝕工藝以除去多余金屬而形成導電圖案的步驟，從而提高原料利用率同時避免污染。
- 專利類型發明專利
- 申請人深圳市華科創智技術有限公司;溫維佳;曾西平;
- 發明人溫維佳;曾西平;
- 地址518057 廣東省深圳市南山科技園南區粵興一道9號香港科技大學產學研大樓412
- 申請號CN201510113075.5
- 申請時間2015年03月13日
- 申請公布號CN104779014B
- 申請公布時間2016年08月24日
- 分類號H01B13/00(2006.01)I;
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