摘要：本發明公開了可實現高消光比的雙電光開關裝置：高消光比雙電光開關裝置，包括：二分之一波片、起偏器，第一電光開關晶體，第一檢偏器，第一廢光收集器，第二電光開關晶體，第二檢偏器，第三檢偏器，第二廢光收集器及電光開關驅動控制電源，此裝置可實現高壓關斷、低壓關斷兩種工作模式。本發明采用雙電光開關，可以大大提高開關的消光比，系統消光比提高上百倍。滿足工業精細加工領域對高消比的電光斬波開關的需求。
- 專利類型發明專利
- 申請人中國科學院光電研究院;北京國科世紀激光技術有限公司;
- 發明人麻云鳳;余錦;張雪;牛崗;樊仲維;趙天卓;楊軍紅;
- 地址100094 北京市海淀區西北旺鎮鄧莊南路9號
- 申請號CN201210442195.6
- 申請時間2012年11月08日
- 申請公布號CN102928999A
- 申請公布時間2013年02月13日
- 分類號G02F1/03(2006.01)I;
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