摘要：本發明涉及一種動態壓力校準裝置，提供一種具有濾波特性的正弦壓力發生腔，它包括主輔結構正弦壓力腔體，其兩側分別為輔正弦壓力腔和主正弦壓力腔，在輔正弦壓力腔和主正弦壓力腔之間相連通的通道內放置有機械濾波器；輔正弦壓力腔頂部和底部分別開槽形成傳感器安裝位置一和傳感器安裝位置二；主正弦壓力腔頂部和底部分別開通孔形成進氣口和排氣口；主輔結構正弦壓力腔體的主正弦壓力腔部分固定在一個腔支撐體中部開有的中孔內；腔支撐體頂部開有氣體入口，底部開有兩個方孔一和方孔二。本發明裝置能夠消除高次諧波的影響，同時降低機械加工難度，提高機械加工精度，極大的改善正弦壓力發生器所產生的正弦壓力波形的失真度和動靜幅值比。
- 專利類型發明專利
- 申請人北京航天計量測試技術研究所;
- 發明人張大有;張東輝;朱剛;閻磊;
- 地址100076 北京市豐臺區南大紅門路1號
- 申請號CN201010513815.1
- 申請時間2010年10月20日
- 申請公布號CN101979980A
- 申請公布時間2011年02月23日
- 分類號G01L27/00(2006.01)I;
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