摘要:本發明涉及測量保偏光纖和雙折射介質的分布式偏振串擾方法及裝置,屬于光學測量技術領域;該方法包括耦合一個具有寬光譜的線性偏振光進入光學雙折射介質,產生兩個正交偏振模傳輸的信號;使兩個正交偏振模之間產生延遲,從而輸出一個調制光輸出信號;再使得兩正交偏振模相互混合;并使兩正交偏振模之間的干涉;處理獲得的干涉信號來識別光學雙折射介質兩正交偏振模之間偏振耦合的位置。該裝置包括線性光源、光學延遲器、線性光學起偏器、光學干涉儀和處理器。采用此方法和裝置可以抑制重影干涉峰數目和幅度,并可獲得高測量靈敏度、寬動態范圍和高空間測量精度。
- 專利類型發明專利
- 申請人北京高光科技有限公司;
- 發明人姚曉天;
- 地址北京市海淀區長春橋路11號億城大廈C1座303
- 申請號CN201010191225.1
- 申請時間2010年06月04日
- 申請公布號CN101871788A
- 申請公布時間2010年10月27日
- 分類號G01D5/26(2006.01)I;