摘要：本發明屬于金屬材料制備領域，尤其適用于一種快淬非晶合金薄帶及其制備方法。該快淬非晶合金薄帶的制備方法，包括配料、真空熔煉、二次熔化、噴帶和收取，其化學成分按照原子百分為：70-85％Fe，0.001-4％Nb或Nb、Mo、W、V、Ta中的至少一種，0.001-25％Si，0.001-15％B，0.001-2％Cu，0.005-0.08％Al和Ti中的至少一種。噴帶步驟中噴嘴和冷卻輥之間形成動態穩定、兩端向外凸的弧形熔潭，熔潭溫度為1180-1300℃；噴嘴縫寬度D為0.1-0.4毫米，冷卻輥和噴嘴間距為0.1-0.4毫米；薄帶的厚度為18-24微米，粗糙度Ra小于2微米。該薄帶具極薄的厚度和優異的表面質量和磁性能，適合制造高品質的鐵心元件。尤其適合更高頻率下的使用，具有更低的高頻損耗和更優良的頻率特性。
- 專利類型發明專利
- 申請人安泰科技股份有限公司;
- 發明人王立軍;劉國棟;陳文智;王六一;
- 地址100081 北京市海淀區學院南路76號
- 申請號CN200810247383.7
- 申請時間2008年12月29日
- 申請公布號CN101445896B
- 申請公布時間2010年09月29日
- 分類號B22D11/06(2006.01)I;
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