隨著材料科學的蓬勃發展，尤其是高水平的量子材料研究與應用對薄膜材料、二維材料的制備和高精度加工要求越來越高。一套完整流程的薄膜制備與加工設備購置成本通常要在幾百萬到上千萬元。此外，大型設備操作繁復，存放空間大、日常維護成本高，給科研人員帶來了很大挑戰。依賴于共享方案的科研平臺由于設備預約周期長，會大大減慢科研進度。為了快速、低成本的實現高質量的材料制備與加工，讓科研計劃進入快車道。英國Moorfield Nanotechnology公司與多所名校以及獲得諾貝爾獎的課題組長期合作，推出了一系列高性能臺式設備, 專門用于各種薄膜材料的高質量制備和加工。該系列產品具有體積小巧、快速制備樣品、靈活配置方案等特點，一經推出即受到包括劍橋大學、帝國理工、英國物理實驗室等科研單位的青睞。
從多功能金屬、絕緣材料濺射到有機物、金屬熱蒸發；從高質量石墨烯CVD快速制備到高質量碳納米管CVD趨向生長；從樣品、襯底的熱處理到單層二維材料的軟刻蝕與缺陷加工。Moorfield系列產品已經獲得歐洲用戶的廣泛認可，產品質量與性能完全可以媲美大型設備，一些方面甚至遠超大型設備。
臺式高性能多功能PVD薄膜制備系列—nanoPVD
專為高水平學術研究研發的小型物理氣相沉積設備。該系列產品包含磁控濺射、金屬/有機物熱蒸發系統。這些設備不僅體積小巧而且性能，能夠快速實現高質量納米薄膜、異質結的制備，通常在大型設備中才有的共濺射、反應濺射、共蒸發功能也可在該系列產品上實現。
臺式高性能多功能PVD薄膜制備系列—nanoPVD
臺式高性能CVD石墨烯/碳納米管快速制備系列—nanoCVD
與諾貝爾獎課題組長期合作的技術結晶，可能是上快的石墨烯生長系統。系統采用低熱容的樣品臺可在2分鐘內升溫至1000℃并控溫，該裝置采用了冷壁技術，樣品生長完畢后可以快速降溫，正是因為這些條件可以讓用戶在30分鐘內即可獲得高質量的石墨烯。nanoCVD具有壓強自動控制系統，可以的控制石墨烯生長過程中的氣氛條件。用戶通過觸屏進行操作，更有內置的標準石墨烯生長示例程序供用戶參考。非常適合需要持續快速獲取高質量石墨烯用于高質量學術研究的團隊。目前，?？巳卮髮W、哈德斯菲爾德大學、萊頓大學、亞森工業大學等很多全球著名的高校都是該系統的用戶。
臺式高性能CVD石墨烯/碳納米管快速制備系列—nanoCVD
臺式超二維材料等離子軟刻蝕系統—nanoETCH
諾貝爾獎課題組都在用的設備。石墨烯等二維材料的微納加工與刻蝕需要很高的精度，而目前傳統半導體刻蝕系統在面對單層材料的高精度刻蝕需求時顯得力不從心。為了解決目前微納加工中常用的刻蝕系統功率較大、難以精細控制的問題，nanoETCH系統對輸出功率的分辨率可達毫瓦量，可實現二維材料超逐層刻蝕、層內缺陷制造，以及對石墨基材或襯底等的表面處理。
臺式超二維材料等離子軟刻蝕系統—nanoETCH
臺式氣氛\壓力控制高溫退火系統—ANNEAL
Moorfield專門為制備高質量的樣品而推出的臺式氣氛\壓力控制高溫退火系統，不僅可以滿足從高真空到各種氣氛的退火需求，還能對氣壓和溫度進行控制，從而為二維材料、基片等進行可控熱處理提供重要保障。該系統顛覆了傳統箱式、管式爐的粗放退火方式，開創了退火的新篇章。
臺式氣氛\壓力控制高溫退火系統—ANNEAL
多功能高磁控濺射噴金儀—nanoEM
nanoEM是Moorfield Nanotechnology為SEM、TEM樣品的表面導電處理以及普通樣品的高質量電生長而設計的金屬濺射系統。系統配備SEM樣品托、TEM樣品網、普通薄膜樣品等多種專用樣品臺。雖然該系統主要為濺射金屬而設計，但是該設備的性能已經達到了高質量薄膜樣品的制備標準。通過選擇不同的配置可以兼顧樣品的表面導電處理、電制備與學術研究型薄膜樣品的制備。
多功能高磁控濺射噴金儀—nanoEM
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