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          I型凹面光柵分度誤差的檢驗方法
          
                
          
                
          
                    
          　　摘要：本發明公開了一種能定量檢驗I型凹面光柵分度誤差的方法。它通過檢驗I型凹面光柵正負極光譜的衍射光束形成的干涉條紋，確定I型凹面光柵分度誤差。
          
                    
                    
            
                        
          • 專利類型發明專利
            • 
                        
          • 申請人北京光學儀器廠;
            • 
                        
          • 發明人吳振華;
            • 
                        
          • 地址北京市通縣
            • 
                        
          • 申請號CN86107454
            • 
                        
          • 申請時間1986年11月07日
            • 
                        
          • 申請公布號CN86107454A
            • 
                        
          • 申請公布時間1988年05月18日
            • 
                        
          • 分類號G01M11/02;
            • 
                    
          
                
          
            
          
            
          
                
            
          
        
          
        


    
          

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