摘要：本實用新型公開了一種激光器，包括半導體激光器、光學整形系統、耦合反射鏡、反射鏡、平板電極對、放電腔、匹配網絡、射頻電源、尾鏡和輸出鏡，其特征在于：放電腔內充有工作氣體；平板電極對平行對稱放置于放電腔內，其表面具有對半導體泵浦激光和輸出增益激光的高反射特性；半導體激光為泵浦光，其中心波長與放電腔內工作氣體射頻放電后的氣體粒子吸收譜線相匹配，通過耦合反射鏡注入至放電腔內。本實用新型具有結構緊湊、體積小、放電均勻、泵浦效率高等特點，可以有效防止高功率連續單模激光、高功率皮秒飛秒激光的非線性效應，實現高光束質量、良好的大氣與光纖傳輸特性、高加工效率條件下的中高功率的激光輸出。
- 專利類型實用新型
- 申請人華中科技大學;
- 發明人秦應雄;陳漢元;彭浩;萬辰皓;龍思琛;巫詳曦;唐霞輝;
- 地址430074 湖北省武漢市洪山區珞喻路1037號
- 申請號CN201520882291.1
- 申請時間2015年11月06日
- 申請公布號CN205159779U
- 申請公布時間2016年04月13日
- 分類號H01S3/0941(2006.01)I;H01S3/038(2006.01)I;H01S3/08(2006.01)I;
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