摘要：本實用新型公布了一種ICP-MS分析系統，所述分析系統包括ICP源、檢測器；所述分析系統進一步包括：線性離子阱，所述線性離子阱設置在所述ICP源和檢測器之間。本實用新型具有更高的碰撞碎裂效率、更多的離子-分子反應通道、以及提供高靈敏度的測量模式等優點。
- 專利類型實用新型
- 申請人聚光科技(杭州)股份有限公司;
- 發明人梁炎;劉立鵬;鄭毅;
- 地址310052 浙江省杭州市濱江區濱安路760號
- 申請號CN201220756835.6
- 申請時間2012年12月29日
- 申請公布號CN203053917U
- 申請公布時間2013年07月10日
- 分類號G01N27/62(2006.01)I;
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