摘要：本實用新型涉及一種用于同步輻射X射線透射顯微成像時承載工具，特別涉及一種X射線顯微透射成像用窗口，包括控制厚度的硅晶片襯底、氮化硅薄膜窗口溝槽、控制厚度的低應力氮化硅薄膜，由于此種氮化硅窗口選用低應力氮化硅薄膜，比計量式和ST氮化硅薄膜更堅固耐用。本實用新型的氮化硅薄膜窗口非常適合應用于透射成像和透射能譜等廣泛的科學研究領域氮化硅薄膜窗口成膜光滑，強度大、致密性好，表面平整性很穩定(粗糙度小于1nm)，可應用于高溫領域，具備較好的薄膜窗格透光性能。
- 專利類型實用新型
- 申請人上海納騰儀器有限公司;
- 發明人侯克玉;賀周同;孔旭東;王晟;
- 地址201616 上海市松江區小昆山鎮秦安街18號A區3號房H座
- 申請號CN201020214623.6
- 申請時間2010年06月01日
- 申請公布號CN201689695U
- 申請公布時間2010年12月29日
- 分類號G21K7/00(2006.01)I;C23C16/34(2006.01)I;C23F1/02(2006.01)I;C23F1/12(2006.01)I;
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