摘要：本發明公開的具有分級納米點結構的二氧化鈦基復合薄膜，是在基底上從下而上依次有二氧化鈦納米點層和光敏半導體納米點層。采用溶膠?凝膠法制備具有分級納米點結構的二氧化鈦基復合薄膜，首先在基底上旋涂二氧化鈦前驅體溶膠，退火干燥處理，在基底上獲得二氧化鈦納米點層，然后在其上旋涂光敏半導體前驅體溶膠，退火干燥處理，便在基底上獲得具有分級納米點結構的二氧化鈦基復合薄膜。本發明的復合薄膜不僅具有優異的光致親水性，而且具有較大的比表面積，有利于細胞的初始附著、增殖和分化。本發明方法簡便，成本低，便于推廣應用，可廣泛應用于體外細胞培養、組織工程等生物醫學工程領域。
- 專利類型發明專利
- 申請人浙江大學;
- 發明人程逵;孫俞;翁文劍;宋晨路;杜丕一;沈鴿;趙高凌;張溪文;徐剛;汪建勛;韓高榮;
- 地址310027 浙江省杭州市西湖區浙大路38號
- 申請號CN201410346487.9
- 申請時間2014年07月21日
- 申請公布號CN104175680B
- 申請公布時間2016年08月17日
- 分類號B32B33/00(2006.01)I;B32B15/04(2006.01)I;B32B17/06(2006.01)I;B32B9/04(2006.01)I;A61L27/40(2006.01)I;A61L27/10(2006.01)I;A61L27/02(2006.01)I;A61L27/04(2006.01)I;A61L27/06(2006.01)I;C12N5/00(2006.01)I;
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