摘要：一種適合于連續化制備高溫超導帶材的方法，首先制備金屬基帶，其次在金屬基帶上生長復合隔離層，然后在復合隔離層上生長超導層，最后在超導層上生長保護層。本發明采用了多靶多通道激光鍍膜方法在同一鍍膜系統內完成復合隔離層和超導層的原位制備，大大提高了激光利用率和帶材制備速度、減少了抽真空時間、提高了設備利用率、降低了固定資產投資強度，從而大大降低了高溫超導帶材的制造成本。
- 專利類型發明專利
- 申請人上海超導科技股份有限公司;
- 發明人李貽杰;
- 地址200080 上海市四川北路1717號23樓
- 申請號CN201110143711.0
- 申請時間2011年05月31日
- 申請公布號CN102306702B
- 申請公布時間2013年06月05日
- 分類號H01L39/24(2006.01)I;C23C28/00(2006.01)I;
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