摘要：本發明涉及氣體的在位測量方法，特點是：光源發出的測量光在光源和探測器之間形成測量光路，測量光路上具有測量區域和非測量區域；所述非測量區域內通有第一氣體，第一氣體中含有被測氣體；第一氣體經過氣流延時后進入非測量區域；在氣流延時前或延時中，測得第一氣體中被測氣體的濃度；分析測量光在測量區域和非測量區域的衰減，并利用第一氣體中被測氣體的濃度，從而獲得測量區域內被測氣體的濃度。本發明具有測量精度高等優點。
- 專利類型發明專利
- 申請人聚光科技(杭州)股份有限公司;
- 發明人林德寶;陳生龍;戰宏亮;俞大海;
- 地址310052 浙江省杭州市濱江區濱安路760號
- 申請號CN201010622384.2
- 申請時間2010年12月31日
- 申請公布號CN102175642B
- 申請公布時間2012年12月12日
- 分類號G01N21/39(2006.01)I;G01N27/407(2006.01)I;G01N24/10(2006.01)I;G01N21/25(2006.01)I;
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