英微米晶圓表面微粒分析儀U-III該產品專為高潔凈度制造場景設計，采用革命性激光傳感技術與智能采樣系統，可精 準檢測0.1微米級表面顆粒污染，助力半導體、液晶面板及精密電子行業實現更高良率與可靠性。核心技術創新納米級檢測能力U-III搭載HeNe激光傳感器，分辨率達0.1微米，支持0.1-5.0微米顆粒粒徑的六通道分類統計（0.1/0.2/0.3/1.0/3.0/5.0μm），覆蓋半導體制造中對超細微粒的嚴苛檢測需求。靜態采樣模式：通過優化氣流控制，減少測量誤差，提升數據穩定性。智能化設計與操作體驗7英寸高分辨率觸控屏：支持實時數據可視化與交互操作，簡化流程。雙電池熱插拔系統?：支持連續生產場景下的不間斷作業，電池更換無需停機。USB數據接口與軟件升級?：便捷導出檢測報告，并可通過固件更新持續優化性能。行業應用與效益提升制造效率減少50%自凈時間?：通過量化表面污染數據，縮短設備維護周期（PM周期），提升產線吞吐量。延長MTBC（平均無故障周期）：結合顆?？刂撇呗?，關鍵設備可靠性提升4倍以上。覆蓋高潔凈場景
半導體制造：晶圓表面、機臺內腔等關鍵區域的潔凈度驗證。
精密光學與電子：液晶面板、光學鏡片組件、醫療器械的表面污染控制。
符合國際標準
產品嚴格遵循ISO-14644-9表面粒子控制規范，為全球半導體廠商提供標準化檢測工具。
測量粒徑：
A 0.3um、2.5um、10um；
B 0.3um、(0.5/1.0/2.5/5.0)um、10um；
C 0.3um、0.5um、1.0um、2.5um、5.0m、10um；
D 0.5um、1.0um、1.5um、2.0um、2.5um、3.0um；
E 0.5um、1.0um、3.0um、5.0um、10.0um、25.0um；
F 0.10um、0.2um、0.25um、0.5um、0.7um、1.0 μm;
