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          教育裝備采購網首頁 > 知識產權 > 專利 > CN204564161U
          
            
          
                
          
                    
          
                        

                        
                        
                    
          
                
          
            
          
        
          
        
          
            
          
                
          一種用于色譜填充的核殼顆粒
          
                
          
                
          
                    
          　　摘要：本實用新型公開一種用于色譜填充的核殼顆粒，其采用無孔SiO2顆粒作為核，采用兩相法在其表面修飾多孔SiO2殼層，且SiO2殼層具有放射狀孔結構，修飾好的SiO2核殼顆粒表面的孔徑、殼層厚度及比表面積為可控、殼層厚度可在10-500nm之間調節。
          
                    
                    
            
                        
          • 專利類型實用新型
            • 
                        
          • 申請人上海通微分析技術有限公司;
            • 
                        
          • 發明人閻超;瞿其曙;
            • 
                        
          • 地址201203 上海市浦東新區張江高科技園區松濤路489號C01座
            • 
                        
          • 申請號CN201520148651.5
            • 
                        
          • 申請時間2015年03月16日
            • 
                        
          • 申請公布號CN204564161U
            • 
                        
          • 申請公布時間2015年08月19日
            • 
                        
          • 分類號B01J20/283(2006.01)I;B01J20/10(2006.01)I;
            • 
                    
          
                
          
            
          
            
          
                
            
          
        
          
        


    
          

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