摘要：本發明涉及一種分析裝置，包括真空腔、電極組、離子傳輸單元、質量分析單元和控制單元，其特點是：所述真空腔內安裝至少兩個電離源；所述分析裝置還包括隔斷單元，所述隔斷單元與每個電離源相對應設置在相應電離源和電極組之間，實現相應電離源產生的離子與真空之間的通斷；所述控制單元控制對電極組施加電壓和隔斷單元的隔斷方式，以實現在不同的電離源工作模式下相應電離源產生的離子通過隔斷單元后依次通過電極組、離子傳輸單元進而進入質量分析單元進行檢測。本發明還提供了一種分析方法。本發明具有檢測范圍寬、不同工作模式間切換便捷等優點。
- 專利類型發明專利
- 申請人聚光科技（杭州）股份有限公司;
- 發明人劉立鵬;胡建坤;鄭毅;韓雙來;李綱;鄧豐濤;
- 地址310052 浙江省杭州市濱江區濱安路760號
- 申請號CN201410521304.2
- 申請時間2014年09月30日
- 申請公布號CN104347343A
- 申請公布時間2015年02月11日
- 分類號H01J49/26(2006.01)I;H01J49/12(2006.01)I;H01J49/02(2006.01)I;
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