摘要：本發明涉及領域，公開了一種光催化反應系統的防護裝置，包括箱體和光源支架，箱體包括箱體本體、上前艙門、下前艙門和后艙門，箱體本體具有上部空間和下部空間；上部空間分為密封層和操作層；密封層通過后艙門密封，用于安裝光催化反應系統的系統主體；操作層通過上前艙門密封，用于安裝光催化反應系統的系統閥組；下部空間通過下前艙門密封，用于安裝光催化反應系統的反應器；下前艙門設有光窗，光源支架安裝在與光窗相對應的位置，用于安裝光催化反應系統的光源；箱體上設有惰性氣體充填機構，用于向密封層、操作層和下部空間充填惰性氣體?？梢詾樨搲簵l件下進行的光催化反應系統提供穩定的反應及測試環境，減少環境對光催化反應及測試的影響。
- 專利類型發明專利
- 申請人北京泊菲萊科技有限公司;
- 發明人劉曉霞;劉忠寶;劉彬;陳磊;李陣;
- 地址100039 北京市海淀區永定路88號長銀大廈11A08
- 申請號CN201410361314.4
- 申請時間2014年07月25日
- 申請公布號CN104162396B
- 申請公布時間2016年01月13日
- 分類號B01J19/12(2006.01)I;
教育裝備采購網在線客服
京公網安備11010802043465號
