摘要：本發明公開了一種高密度、大尺寸、高均勻性鉬鈦合金靶材的制備方法，1）向Mo粉與Ti粉內加溶劑和粘結劑磨制成漿料；2）用噴霧機對漿料噴霧造粒，進口溫度為250-300℃，噴頭轉速為8000-12000rpm，得到Mo-Ti復合粉，壓制成尺寸規整的坯料；3）將多個坯料裝入包套內，向相鄰坯料間內填充入50-250μm的Mo-Ti復合粉形成均勻的復合粉層，復合粉層厚度為0.5-1mm，保證任意一側包套內壁與相鄰坯料外壁間的間隙小于或等于0.5mm；4）將包套焊接、脫氣后熱等靜壓處理，處理條件為750-900℃、120-160MPa，保溫保壓時間為4-6h，去除包套即可。該方法制作的靶材可用作濺射沉積技術的陰極材料。
- 專利類型發明專利
- 申請人安泰科技股份有限公司;
- 發明人劉國輝;顏君毅;姚惠龍;郭穎利;熊寧;王鐵軍;劉文彬;陳福鴿;林同偉;劉慧淵;
- 地址100081 北京市海淀區學院南路76號
- 申請號CN201310744517.7
- 申請時間2013年12月30日
- 申請公布號CN103740979B
- 申請公布時間2016年04月06日
- 分類號C22C14/00(2006.01)I;C22C27/04(2006.01)I;C22C1/04(2006.01)I;B22F1/00(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;B22F3/14(2006.01)I;
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