摘要：本發明公開了一種雙層復合減反射膜的制備方法，其中包括制備二氧化硅溶膠、制備二氧化鈦溶膠、玻璃清洗、提拉鍍第一層膜、干燥固化燒結、制備硅酸鹽溶膠、提拉鍍第二層膜、干燥、酸液浸蝕、洗滌、干燥等步驟。本發明通過在玻璃表面涂鍍相匹配的二氧化硅／二氧化鈦膜與二氧化硅膜，在玻璃表面形成一種雙層復合減反射膜，從而達到降低玻璃反射率提高玻璃透過率的目的。由該工藝制備的減反射高硼硅玻璃具有明顯的增透效果，玻璃透過率由原玻璃的91.5％提高到97～98％，透過率增加了6％左右。
- 專利類型發明專利
- 申請人北京市太陽能研究所集團有限公司;
- 發明人王啟;朱敦智;李金標;
- 地址100089 北京市海淀區花園路3號
- 申請號CN201310586863.7
- 申請時間2013年11月21日
- 申請公布號CN103613282A
- 申請公布時間2014年03月05日
- 分類號C03C17/34(2006.01)I;C03C15/00(2006.01)I;
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