摘要：本發明公開了一種小口徑回轉軸對稱光學元件拋光裝置及方法。該裝置包括密封容器機構，安裝于密封容器機構內腔中的工作臺驅動系統，與密封容器機構連接的拋光流體循環系統；密封容器機構內腔上部形成負壓空間。拋光時利用負壓差的吸流效應使拋光流體吸出、復合負壓空穴效應對工件面進行加工，將加工的常壓環境轉換為負壓環境，減少噴射過程中空氣干擾，使拋光點縮小，增強微細磨粒的滑擦作用與穩定性；同時負壓空穴效應形成強烈的空穴沖擊波和高速微射流，提高了工件表面的去除效率。在磨粒切削與空穴沖蝕共同作用下進行材料去除，獲得高質量的表面。該裝置適用于各種回轉對稱曲面光學元件的拋光加工，對于自動化加工有很高的實用價值。
- 專利類型發明專利
- 申請人湖南大學;
- 發明人陳逢軍;尹韶輝;胡天;余劍武;許志強;
- 地址410082 湖南省長沙市岳麓區麓山南路2號
- 申請號CN201210399583.0
- 申請時間2012年10月19日
- 申請公布號CN102873643B
- 申請公布時間2014年06月18日
- 分類號B24C3/02(2006.01)I;B24C7/00(2006.01)I;B24C9/00(2006.01)I;B24C5/00(2006.01)I;
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