摘要：本發明提供一種用于均衡氣體通道內氣流的均衡裝置，能夠均衡氣流在通道內的分布，使得氣體充滿整個氣流通道。本發明包括固定支架和多個擋片，多個所述擋片沿所述固定支架的長度方向依次固定設置，所述固定支架能夠套裝在氣體的通道內；所述擋片具有供氣流通過的氣流孔，以及阻擋氣流以形成渦流的實體部。當有氣體經過所述均衡裝置時，所述擋片的實體部就會對氣體進行阻擋，一部分氣體會在擋片的阻擋下回流，回流的氣體與后續進入的氣體形成一個氣流的鋒面，構成渦流氣體。也就是說，在固定支架所處的通道內充滿了渦流氣體。當安裝有多個所述擋片的固定支架放置在氣體的通道內時，通入的氣體就能夠充滿并均勻地分布在該通道內。
- 專利類型發明專利
- 申請人北京雪迪龍科技股份有限公司;
- 發明人郭雪松;
- 地址102206 北京市昌平區回龍觀國際信息產業基地3街3號
- 申請號CN201210299576.3
- 申請時間2012年08月21日
- 申請公布號CN102829282B
- 申請公布時間2015年05月27日
- 分類號F16L55/00(2006.01)I;F16L23/00(2006.01)I;
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