摘要：本發明涉及一種多次反射氣室，它包括：一光學池，光學池為兩端通透的中空長方體；二通透端上分別固定連接一主反射鏡板和一1/2反射鏡板，二通透端與所述主反射鏡板和1/2反射鏡板之間設置有“O”形密封圈；主反射鏡板上粘結有一主反射鏡，1/2反射鏡板上平行粘結有兩1/2反射鏡；與光學池一體的另兩側板上分別開設有一進光口和一與其對應設置的出光口；光學池內的進光口和出光口處分別設置有一入射反射鏡和一輸出反射鏡，且入射反射鏡和輸出反射鏡分別與進光、出光方向成45°角；光學池上設置有二氣口，光學池與1/2反射鏡板之間固定連接一兩端通透的墊塊。本發明擴大了測量范圍，實現了對不同中濃度氣體的精準性測量。
- 專利類型發明專利
- 申請人北京市華云分析儀器研究所有限公司;
- 發明人唐青云;石莉雯;
- 地址100091 北京市海淀區紅山口國防大學第三休養所三層
- 申請號CN200810246800.6
- 申請時間2008年12月31日
- 申請公布號CN101441166B
- 申請公布時間2010年11月10日
- 分類號G01N21/01(2006.01)I;G01N21/17(2006.01)I;
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