摘要：一種平面反射式復眼冷光源曝光系統，屬于光刻技術領域。包括：燈源組、多面鏡組裝置、反光鏡組、曝光裝置等，其特征在于，多面鏡組裝置，包括上層鏡座、下層鏡座，上層鏡座緊密疊合于下層鏡座上；上層鏡座包括：上盤、上鏡片壓圈、上盤反光片，上鏡片壓圈置于上盤、上盤反光片之間，上盤反光片依次緊密環行成圈放列于上盤內；下層鏡座結構類似上層鏡座。反光鏡組包括：小反光鏡組、大反光鏡組，小反光鏡組、大反光鏡組平行對峙放置，并與水平夾角為45°。本發明提出了多層反射鏡的位置排列，大大提高了曝光均勻性，并拓展為更大的曝光面積。
- 專利類型發明專利
- 申請人上海學澤光學機械有限公司;
- 發明人張岳方;
- 地址201108 上海市閔行區老滬閔路1901號
- 申請號CN200810037366.0
- 申請時間2008年05月14日
- 申請公布號CN101349814B
- 申請公布時間2010年04月07日
- 分類號G02B27/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;
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