摘要：本發明所述的一種薄樣和厚樣兼容測量的X射線能譜儀，包括X射線出射窗口、安全光閘機構、X射線管、干擾光阻斷結構、探測器、薄樣品插槽。其中X射線出射窗口與X射線光束同軸，薄樣品插槽設于X射線出射窗口與X射線管之間，干擾光阻斷結構設于X射線管與探測器之間，安全光閘機構設于X射線管以及探測器與X射線出射窗口之間。本發明所述一種薄樣和厚樣兼容測量的X射線能譜儀的優點在于：它有效的結合了薄、厚樣技術檢測儀的長處，既能滿足一般工礦單位對樣品進行簡單方便快捷的測量，又可以得到更高精度的測量結果，滿足實驗研究的需要。
- 專利類型發明專利
- 申請人北京普析通用儀器有限責任公司;
- 發明人田宇纮;
- 地址100081北京市海淀區中關村南大街甲8號威地科技大廈
- 申請號CN200610111338.X
- 申請時間2006年08月23日
- 申請公布號CN101131369A
- 申請公布時間2008年02月27日
- 分類號G01N23/083(2006.01);
教育裝備采購網在線客服
京公網安備11010802043465號
