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PHI5000VersaProbe
儀器簡介：
一推出，立刻受到高?？蒲袉挝粴g迎。
國內用戶有 南京大學分析中心 上海師范大學 天津46所
技術參數：
3、儀器主機功能與附件功能
3.1 單色化XPS，Al Kα，包括：
大面積XPS、小面積XPS、成像XPS、深度剖析XPS和角分辨XPS。
3.2 雙陽極XPS，Mg/Al Kα
3.3 紫外光電子能譜，UPS
3.4 高壓反應室
3.5 分析室樣品冷/熱臺
4、儀器主要部件
4.1 超高真空分析室
180度半球能量分析器，
電子透鏡傳輸系統，
16多通道電子檢測器
分子泵，離子泵，鈦升華泵
單色化XPS (AlKα)系統，含內循環水冷卻裝置，
XPS成像系統，
雙陽極XPS系統，冷卻循環水和單色化系統共用
紫外光源，
荷電中和系統，用于絕緣樣品或導電性差的樣品的荷電補償，
5軸樣品臺，
標準樣品托 2個
Recessed樣品托 1個
氬離子槍，用于深度剖析，
熱雙燈絲離子規，
閉路電視顯微彩色攝像系統和SXI成像系統，
分析室和進樣室都有獨立光纖照明系統，
可觀察視窗，視窗直徑10cm左右,
樣品熱/冷臺,溫度可監測。
4.2 樣品進樣室
機械泵，分子泵 熱雙燈絲離子規,
可觀察視窗，視窗直徑10cm左右。
空氣壓縮機一臺，國內采購
4.3 石英高壓反應池
程序控溫系統
真空監測系統
真空泵系統
進出氣系統,參考南京大學用戶設計建議。
壓力 一個大氣壓
全石英底座
密封材料 Byton O-ring
最高溫度 600度
遠紅外線加熱控溫系統
單獨石英反應器冷卻系統
4 樣品磁耦合傳輸系統
4.5 真空烘烤系統
4.6 主機系統集成，減震裝置。
4.7 計算機系統，含數據采集和數據處理軟件包。
4.8 與以上所有系統相關聯的電子學控制柜。
5、儀器主要技術參數與要求
5.1 儀器主機功能，單色化Al Kα
5.1.1 大面積XPS
Ag3d5/2，1400umx100um, FWHM≤1.00eV時，靈敏度≥1,000,000 cps。
Ag3d5/2，1400umx100um, FWHM≤0.60eV時，靈敏度≥250,000 cps。
5.1.2 小面積XPS，最小分析面積≤10μm ，性能指標應達到：
Ag3d5/2，20μm， FWHM≤0.60eV時，靈敏度≥15,000 cps。
Ag3d5/2，10μm， FWHM≤0.60eV時，靈敏度≥4,000 cps。
Ag3d5/2，10μm， FWHM≤1.00eV時，靈敏度≥12,000 cps。
Typical value for 100um and 20um at 75degree and 45degree
75degree
Ag3d5/2，20μm , FWHM≤0.90eV時,靈敏度≥ 99kcps
Ag3d5/2，100μm , FWHM≤0.90eV時,靈敏度≥ 47kcps
45degree
Ag3d5/2，20μm , FWHM≤0.90eV時,靈敏度≥ 50kcps
Ag3d5/2，100μm , FWHM≤0.90eV時,靈敏度≥ 27kcps
5.1.3 成像XPS
單色化X射線掃描成像，最佳空間分辨率≤10 μm。
5.1.4 深度剖析XPS
聚焦掃描氬離子槍，當working distance為30 mm時.聚焦氬離子束斑≤150μm，當
working distance為60mm時候，聚焦氬離子束斑≤300μm束流密度≥0.5 mA/cm2。
5.2 儀器附件功能
5.2.1 雙陽極XPS，MgKα，Ag3d5/2，FWHM≤1.40eV時，靈敏度≥1,000,000 cps。
5.2.2 紫外光電子能譜(UPS)
(a) 光源：He紫外光源，HeI:HeII=3:1
(b) 性能指標：分辨率(Ag費米邊)≤120 meV時，靈敏度(Ag4d)≥2,000,000 cps。
(c) 最小步長：5meV
5.2.3 高壓反應室
(a) 材質：石英
(b) 內膽內壓強：≥760Torr
(c) 最高溫度，≥600℃
(d) 氣體混合倉附計量裝置，包括壓力表、流量計和針閥等。
5.2.4 分析室樣品冷/熱臺，溫度：170 K–600 K，溫度可檢測，加熱PID控制。
5.3 儀器主要部件參數與要求：
5.3.1 能量分析器
(a) 類型：半球能量分析器
(b) XPS能量范圍： 0–1600 eV(25 meV)
UPS ：0～320 eV(5 meV)
5.3.2 超高真空分析室
(a) SUS材質內表面經過特殊處理
(b) 真空：小于6.7×10-10 mbar
5.3.3 樣品進樣室
(a) 材質：非磁性不銹鋼材料
(b) 真空：小于6.7×10-9 mba
5.3.4 深度剖析氬離子槍
100eV–5keV，連續可調，掃描型。
5.3.5 荷電中和系統：雙槍中和系統。
5.3.6 樣品控制臺
(a) 軸向：5軸，
(b) 移動：各向移動距離必須與樣品臺尺寸相匹配，步進步長小于1μm，
(c) 傾斜：0–90°
5.3.7 計算機系統
(a) Pentium IV，CPU主頻3.0GHz左右;
(b) 內存2G, 硬盤250 G;
(c) 2個DVD/CD-RW Combo光盤驅動器,
(d) 22" 液晶平板顯示器;
(e) 4個USB2.0接口;
(f) 100M以上以太網接口，用于數據傳輸;
(g) 預裝Windows XP正版軟件;
( h ) 預裝儀器操作軟件和數據分析軟件(含最新的XPS數據庫)，附安裝軟件光盤;
主要特點：
1.世界上獨一無二掃描微聚焦X-射線source
2..世界上獨一無二掃描微聚焦X-射線產生的2次電子成像SXI像和XPS成像，可以幫助客戶找到肉眼看不見的微觀缺陷。
3?？梢越o出10um XPS sensitivity.其他公司不能。20um 的XPS sensitivity是其他公司同類產品的1倍以上。
濱州創元設備機械制造有限公司代理的日美納米表面分析儀器公司(U-P)的帶有俄歇電子能譜功能的多功能平臺聚焦掃描式微區X射線光電子能譜儀PHI5000VersaProbe在昆明理工招標會上以技術領先取勝中標.最近完成技術和商務簽約。預計明年2月安裝運行。
該校獨具慧眼，及時導入帶有俄歇電子能譜功能的多功能平臺聚焦掃描式微區X射線光電子能譜儀PHI5000VersaProbe.繼上海大學，天津46所，南京大學導入多功能平臺聚焦掃描式微區X射線光電子能譜儀PHI5000VersaProbe后，該校首次在中國導入以XPS為主，兼顧帶有俄歇能譜功能的配置。使得該裝置微區分析功能進一步增強。對經費有限，不能同時購買單功能XPS和單功能AES的用戶來說是非常好的選擇。相信今后中國用戶會逐漸喜歡這種復合XPS/AES的表面分析裝置。
