超高真空光學顯微鏡/光譜儀測試系統
Ultra-high Vacuum (UHV) Optical / SpectroscopicMicroscope System
將光學顯微鏡或光譜儀模組對接于超高真空系統，可以作為超高真空互聯系統的檢測節點之一，用于材料和器件在不同制備環節之間對外延的薄膜或者轉移沉積的二維材料等樣品的質量進行快速無損檢測。
產品特性和核心技術
模塊化設計，光學部分相對獨立。
·包含光學顯微鏡、激光離焦量傳感器、自動調焦和共聚焦耦合光路等等在內的全部光學部分全部集成于一個光學模組之中，作為整體置于超高真空腔體之外，透過視窗玻璃聚焦于真空腔內的樣品表面。
·不污染真空內環境。
·超高真空系統烘烤時可以整體取走，并在烘烤完畢之后方便地定位安裝。
·可根據用戶需求，靈活配置激光器、單色儀、探測器和物鏡等光學組件。
視窗玻璃厚度像差的補償校正。
·拉曼光譜的高收集效率和分辨率。
性能參數：
注：上述表格中的激光波長、物鏡和單色儀等部件可以根據客戶需求調整。
測試案例：
超高真空長工作距離（120 mm）顯微測試
