加熱型臺式涂膜機/實驗型加熱涂布機XNC-T2陶瓷類薄膜、晶體類薄膜
本產品廣泛用于高溫涂膜研究，例如陶瓷類薄膜、晶體類薄膜、電池材料薄膜、特殊納米薄膜；能夠適應未來高溫條件下成膜的科學技術的發展。
一、主要特點：
1、強風加熱和數字顯示溫度控制的烘干系統，較高工作溫度200℃；
2、涂膜速度在0～100mm/秒范圍內可調，并且帶數字顯示；
3、真空鋁盤，可快速放置或取下極片；
4、帶調整涂膜厚度（精度0.02mm）寬度0-140mm的刮刀；
二、技術參數：
1、涂抹速度：0～100mm/秒；
2、較大行程：220mm；
3、真空板：帶真空鋁平板；
4、真空板尺寸：365mm(L)×200mm(W)×30mm(H)；
5、刮刀可調范圍：0.02～2
6、加熱烘干系統：室溫～200℃,數顯溫度控制器,精度±1℃
7、重量：45KG
8、電源：220V ±10%
