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          磁控濺射鍍膜機 NSC-3500(A)全自動磁控濺射系統 那諾-馬斯特

          磁控濺射鍍膜機 NSC-3500(A)全自動磁控濺射系統 那諾-馬斯特
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          那諾-馬斯特/Nano-Master
          NSC-3500(A)
          Nano-Master
          高教
          美國
          詳細說明

          NSC-3500(A)全自動磁控濺射系統概述:帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能,可達到6"旋轉平臺,支持到3個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵,極限真空可達10-7 Torr,15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

          NSC-3500(A)帶有14”立方形不銹鋼腔體,3個2”的磁控管,DC直流和RF射頻電源。 在選配方面,350 l/s渦輪分子泵,額外的磁控管和襯底加熱功能。


          NSC-3500(A)全自動磁控濺射系統產品特點:

          • 不銹鋼腔體

          • 260l/s或350l/s的渦輪分子泵,串接機械泵或干泵

          • 13.56MHz,300-600W RF射頻電源以及1KW DC直流電源

          • 晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率

          • 帶觀察視窗的腔門易于上下載片

          • 基于LabView軟件的PC計算機控制

          • 帶密碼保護功能的多級訪問控制

          • 完全的安全聯鎖功能

          • 預真空鎖以及自動晶圓片上/下載片


          NSC-3500(A)全自動磁控濺射系統選配項:

          • RF、DC濺射

          • 熱蒸鍍能力

          • RF或DC偏壓(1000V)

          • 樣品臺可加熱到700°C

          • 膜厚監測儀

          • 基片的RF射頻等離子清洗


          應用:

          • 晶圓片、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質涂覆

          • 光學以及ITO涂覆

          • 帶高溫樣品臺和脈沖DC電源的硬涂覆

          • 帶RF射頻等離子放電的反應濺射


          型號:

          • NSC-4000:基于PC計算機全自動控制的獨立式系統

          • NSC-3500:基于PC計算機全自動控制的緊湊型獨立式系統

          • NSC-3000:PC計算機全自動控制的臺式系統

          • NSC-1000:半自動控制的臺式系統

            (以下為雙系統型號)

          • NSR-4000:濺射/RIE系統

          • NSP-4000:濺射/PECVD系統

          • NST-4000:濺射/熱蒸發系統

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