產品簡介：
所有的納米壓痕試驗都取決于精確的加載和位移數據，要求對加載到樣品上的載荷有精確的控制。KLA新一代 G200 型納米壓痕儀采用電磁驅動的載荷裝置，從而保證測量的精確度，獨特的設計避免了橫向位移的影響。 KLA新一代 G200型納米壓痕儀的杰出設計帶來很多的便利性，包括方便的測試到整個樣品臺，精確的樣品定位，方便的確定樣品位置和測試區域，簡便的樣品高度調整，以及快速的測試報告輸出。模塊化的控制器設計為今后的升級帶來極大的方便。
特點和優勢
- 廣受贊譽的高速測試選項可以和G200 型納米壓痕儀配合使用, 包括DCMII 和 XP 模塊以及樣品臺
- 快速進行面積函數和框架剛度校對
- 精確和可重復的結果, 完全符合 ISO14577 標準
- 通過電磁驅動, 可在無與倫比的范圍內連續調整加載力和位移
- 結構優化, 適合傳統測試或全新應用
- 模塊化選項, 適合劃痕測試, 高溫測試和動態測試
- 強大的軟件功能, 包括對試驗進行實時控制, 簡化了的特殊測試方法的開發
應用：
- 半導體器件, 薄膜
- 硬質涂層, DLC薄膜
- 復合材料, 光纖, 聚合物材料
- 金屬材料, 陶瓷材料
- 無鉛焊料
- 生物材料, 生物及仿生組織等等
功能：
- 增強的載荷加載系統
- 增強的納米劃痕測試
- 強化的微摩擦磨損測試功能
- 粘彈性材料性能測量功能
- 恒應變速率測試/可變應變速率測試
- 連續剛度測量功能
- 增強的原位納米力學測試功能
- C高精度成像定位功能
- 接觸剛度成像功能
主要指標：
| 位移測量方式 | 電容位移傳感器 |
| 壓頭總的位移范圍 | ≥ 1.5 mm |
| Max.壓痕深度 | > 500 um |
| 位移分辨率 | 0.01 nm |
| 加載模式 | 電磁力 |
| Max.載荷 (標配) | > 500 mN |
| 載荷分辨率 | 50 nN |
| 高載荷選件 | 10 N/50 nN |
| DCM 壓痕選件 | 10 mN/1 nN |
| 框架剛度 | ≥ 5 x 106 N/m |
| 納米樣品臺 | 200 mm X 200 mm |
| 定位精度 | 1 um |
| 定位控制模式 | 全自動遙控 |
| 總的放大倍率 | 250 倍和 1000 倍 |
選項：
- Max.劃痕力：1000mN
- Max.劃擦深度：40um
- Max.磨損面積：400mm2
- Max.劃痕速度：100um/s
- 定量測試薄膜和基底的結合強度
- 表面抗劃擦能力
- 連續循環劃痕摩擦
- 壓頭保護功能
- 劃痕面積和體積
- 實現線性變載或恒定載荷模式下劃痕測試
- 連續剛度測試功能
- 材料的粘彈性測試功能
- 薄膜測試功能
- 功能-提供三維成像功能
- 功能-提供四維成像功能
- 自定義測試功能
- 數據極速采集功能
- 雙子星多維度磨損附件
- 測試附件
- 高精度成像附件
- 500°C 加溫附件
