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上海伯東日本 Atonarp 過程控制質譜儀 Aston? 專為半導體生產而設計, 實現工藝過程控制, 作為一個強大的平臺, Aston? 可以取代多種傳統工具, 提供半導體制程中 ALD, CVD, 蝕刻, ALE 和腔室在大批量生產中的氣體偵測分析, 實現尾氣在線監控, 診斷并在一系列應用中提供前所未有的控制水平, 適用于光刻, 電介質和導電蝕刻及沉積, 腔室清潔, 腔室匹配和消解.
Aston? 質譜分析儀耐受腐蝕性氣體和氣化污染物冷凝液, 能夠在半導體生產遇到的惡劣工況下可靠運行, 與傳統質量分析儀相比, 使用 Aston? 的維修間隔更長. 它包括自清潔功能, 可消除由于某些工藝中存在的冷凝物沉積而導致的污垢積累.Aston? 特性
實時過程控制的通用工具, 耐腐蝕性氣體, 抗冷凝
半導體制造的分子分析原位平臺, 提供實時, 可操作的數據
采用等離子體電離源, 無燈絲, 更耐用
可與大批量生產工具完全集成
Atonarp Aston? 技術參數
類型 | Impact-300 | Impact-300DP | Plasma-200 | Plasma-200DP | Plasma-300 | Plasma-300DP |
型號 | AST3007 | AST3006 | AST3005 | AST3004 | AST3003 | AST3002 |
質量分離 | 四級桿 | |||||
真空系統 | 分子泵 | 分子泵 隔膜泵 | 分子泵 | 分子泵 隔膜泵 | 分子泵 | 分子泵 隔膜泵 |
檢測器 | FC /SEM | |||||
質量范圍 | 2-285 | 2-220 | 2-285 | |||
分辨率 | 0.8±0.2 | |||||
檢測限 | 0.1 PPM | |||||
工作溫度 | 15-35“℃ | |||||
功率 | 350 W | |||||
重量 | 15 kg | |||||
尺寸 | 299 x 218 x 331 LxWxH(mm) | 400 x 240 x 325 LxWxH(mm) | ||||
Aston? 質譜分析儀CVD 典型應用: Dry pump 干泵排氣在線監測,診斷
在惡劣的 CVD 環境中, Aston? 利用可操作的數據預測和預防因 PV-CVD 干泵引起的災難性故障, 能夠對破壞性腐蝕或沉積進行預測建模, 優化氮氣吹掃成本.
適用場景: 多個腔室連接到1個干泵, 高濃度的電介質會導致災難性的泵故障 (一次損失 10-100 片的晶圓)
通過使用上海伯東 Atonarp
過程控制質譜儀 Aston?可以提高半導體制造工藝的產量, 吞吐量和效率, 此款質譜儀可以在新工藝腔室的組裝過程中進行安裝, 也可將其加裝到已運行的現有腔室, 可在短時間內實現晶圓更高產量!
若您需要進一步的了解
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