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          IGZO沉積用熱原子沉積設備(LTPO)

          IGZO沉積用熱原子沉積設備(LTPO)
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          • IGZO沉積用熱原子沉積設備(LTPO)
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          NCD
          GD
          NCD
          高教
          韓國
          詳細說明

          由于LTPS TFT具有高電子遷移率,從而得到快速應答。雖然電耗比具有低漏泄電流的Oxide TFT大,但一直應用于消耗大部分電力的智能手機OLED顯示領域。

          但在提高移動和在穿戴設備的能效上有了新的技術,LTPO (Low Temperature Polycrystalline Oxide) TFT,此技術是電子高遷移率的LTPS TFT和低漏泄電流的Oxide TFT合成技術。在這個TFT中,Switching TFT 需要快速ON/OFF光線,使用了低漏泄電流的Oxide TFT。而Operating TFT需要通過調節光量進行快速畫面切換,所以使用了具有高電子遷移率的LTPS TFT.

          智能手表主要使用黑色背景,由于Switching的電耗比較高,采用LTPO TFT可降低約40%的電耗。因此,包括蘋果在內的眾多智能設備制造商正在應用或即將應用LTPO. 另外,由于這種低電耗的優勢,三星和蘋果等智能手機制造商正在積極開發,目標是將LTPO顯示屏搭載到智能手機上。

            Oxide TFT中使用的IGZO薄膜仍在以Sputtering方式沉積,但厚度和成分均勻度的問題,等離子體損傷導致物理電器特性降低以及濺射目標均勻度的問題。但是,當應用  ALD-IGZO時,可以在低溫度工藝下控制原子單位的厚度和組成,因為工藝過程中沒有等離子體損傷,因此可以實現高質量的薄膜沉積。

            通過用Thermal ALD的方法控制ALD循環比例,可以獲得目標IGZO的原子組成(In:Ga:Zn)的薄膜。因此,這種方式能夠輕松準確的調節適合客戶元件結構IGZO的組成。從而獲得優于濺射方式的元件特性。

            研發IGZO工藝用高生產率配置ALD系統,該系統采用獨創技術,將多元系氧化物IGZO的組成比控制在個別應用領域元件所需的組合比。特別是 GD Series的應用,可在多個大面積基板上沉積ALD,有望在目前迅速應用IGZO薄膜的LTPO TFT s元件中提供卓越的質量競爭力和高生產率。



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