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          電導率-塞貝克系數掃描探針顯微鏡-PSM II

          電導率-塞貝克系數掃描探針顯微鏡-PSM II
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          Panco
          PSM II
          德國PANCO公司與德國宇航中心聯合研發
          高教
          德國
          詳細說明

          電導率-塞貝克系數掃描探針顯微鏡


            電導率-塞貝克系數掃描探針顯微鏡是由德國PANCO公司與德國宇航中心聯合研發的熱電材料精細測量設備,該設備主要用來測量熱電材料中電勢和塞貝克系數的二維分布情況。集成化、自動化的設計方案使系統使用非常方便。的穩定性和可靠性彰顯了傳統德國制造業的優良品質。全新推出的第二代電導率-塞貝克系數掃描探針顯微鏡(PSM II)在代的基礎上具有更高的位置分辨率和更高的測量精度。

          電導率-塞貝克系數掃描探針顯微鏡-PSM II

          產品特點:

            +  可以測量Seebeck系數二維分布的商業化設備。

            +  的力學傳感器可以確保探針與樣品良好的接觸。

            +  采用鎖相技術,精度超過大型測試設備。

            +  快速測量、方便使用,可測塊體和薄膜。


          主要技術參數:               

          +  位置定位精度:單向 0.05 μm;雙向 1 μm

          +  掃描區域:100 mm × 100 mm 典型值

          +  局部測量精度:5 μm(與該區域的熱傳導有關)

          +  信號測量精度:100 nV(采用高精度數字電壓表)

          +  測量結果重復性:重復性誤差優于3%

          +  塞貝克系數測量誤差:< 3% (半導體);< 5% (金屬)

          +  電導率測量誤差: < 4%

          +  測量速度:測量一個點的時間4-20秒

          應用領域:

          1、熱電材料,超導材料,燃料電池,導電陶瓷以及半導體材料的均勻度測量

          2、測量功能梯度材料的梯度

          3、觀察材料退化效應

          4、監測 NTC/PTC 材料的電阻漂移

          5、固體電介質材料中的傳導損耗

          6、陰材料的電導率損耗

          7、GMR 材料峰值溫度的降低,電阻率的變化

          8、樣品的質量監控

            

          系統組成部分


          +  三矢量軸定位平臺及其控制器

          +  定位操縱桿

          +  加熱、測溫探針

          +  力學接觸探測系統

          +  模擬多路器

          +  數字電壓表

          +  鎖相放大器

          +  攝像探測系統

          +  帶有專用控制軟件和數據接口的計算機

          +  樣品臺與樣品夾具

          電導率-塞貝克系數掃描探針顯微鏡-PSM II

          樣品夾具

          電導率-塞貝克系數掃描探針顯微鏡-PSM II

          加熱測溫探針

            

          部分測試數據

            1、塞貝克系數測量

          Bi2Te2.85Se0.15梯度材料表面的塞貝克系數分布(數據來源,PANCO實驗室)

          2、接觸電阻測量

            存在界面的樣品通過該設備還可以測量出界面處的接觸電阻。通過測量電阻率隨針尖位置的變化,可以得到樣品界面處的接觸電阻。

          接觸電阻可以通過連續測量界面兩側的電勢分布計算得到,圖中ΔR正比于接觸電阻。(數據來源,PANCO實驗室)

            

          部分用戶名單:

            Beijing University of Technology

            Corning Company

            Korea Research Institute of Standards and Science

            Shanghai Institute of Ceramics, CAS

            Germany Air Force Research Lab

            Simens Company 

            Gwangju Institute of Science and Technology 

            Hamburg University 

            Munich University

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