方位行星式磨機/行星式磨機/磨機 型號：DP/QW
DP/QW方位行星式磨機是混和、細磨、小樣制備、新產品研制和小批量新材料的裝置。該行星磨機體積小、能、效率、噪聲低，是科研單位、等院校、企業實驗室獲取研究試樣（每次實驗可同時獲得四個樣品）的理想設備。該產品可選擇干、濕兩種方法粉碎和混和粒度不同，材料各異的產品，研磨產品小粒度可至0.1微米（即1.0×10-4mm）。廣泛應用于土壤、地質、礦產、冶金、電子、建材、陶瓷、化、輕、藥、環保等。
DP/QW方位行星式磨機是在大盤上裝有四個磨罐，當大盤轉動（公轉）時，磨罐在其公轉軌道上作自轉運動，大盤和磨罐在做行星運動的同時，又可在立體空間范圍內做360°翻斗式翻轉，并可人為設置在意方位定點運行，使所磨的材料更加勻細，并能解決分材料的沉底和粘罐問題。
DP/QW方位行星磨機采用交流電機變頻程序控制（無碳刷磨損、壽命長、低速啟動率大、節電、能設置程序運行），整機體化，體積小、重量輕、噪音低，操作簡單，不需嚴格平衡即可操作?？刂葡到y采用目前內的具有程序設置能的變頻調速控制，可實現連續單向、連續換向、定時單向、定時換向四種方式的程控運行。
參數：
作方式：兩個或四個磨罐同時作
運轉方式：磨罐可作360度翻轉研磨及定點運行
裝樣量：磨罐容積的三分之二
料粒度：土壤料≤10mm，其他料≤3mm
出料粒度：小可達0.1um
轉速比（公轉：自轉）：1：2
轉速(自轉)：0.4L：0～700轉/分，2L：0～600轉/分，4L：0～550轉/分，10L：0～440轉/分，20L：0～350轉/分，60L：0～300轉/分，100L：0～240轉/分公、自轉總成翻轉周期：1分鐘
控制方式：變頻無調速、程控控制，LED顯示，自動定時正反轉、定時關機
連續作時間（滿負荷）：72小時
規格型號：
型號
規格
磨罐
備注
規格（ml）
配相應數量罐
單位：只
DP/QW0.4L
0.4L
50～100
4
可配50ml真空磨罐
DP/QW2L
2L
50～500
4
可配50～250ml真空磨罐
DP/QW4L
4L
250～1000
4
可配50～500ml真空磨罐
DP/QW10L
10L
1～2L
4
可配500～2000ml真空磨罐
DP/QW20L
20L
3～5L
4
可配3L真空磨罐
DP/QW60L
60L
10～15L
4
可配10L真空磨罐
DP/QW100L
100L
20～25L
4
可配15L真空磨罐
操作方法：
磨罐：通常四個磨罐重量（罐+配+試樣+輔料）應基本致，以保持運轉平穩，減小振動引起噪聲，延長設備使用壽命。若樣品不足，對稱使用（只裝兩個罐）也可。
試樣：試樣直徑通常為1毫米以下，固體顆粒般不過3毫米，土壤允許10毫米。
裝料：裝料容積（試樣+配+輔料）為磨罐容積的三分之二，余下的三分之作為運轉空間。
轉速：為了獲取效果，轉速、磨時間、配（大、小合理搭配）及試樣大小、多少和添加輔料等參數要選擇恰當。
磨罐材質：不銹鋼、真空不銹鋼、瑪瑙、尼龍、陶瓷、聚四氟乙烯、聚胺脂、硬質合金、氧化鋯
