摘要：1.本外觀設計產品名稱為投影式光顯屏蔽機；2.本外觀產品屬于低輻射信息處理設備，用于處理信息涉密的機構；3.本外觀設計要點：本外觀設計要點在于產品的整體造型；4.本外觀設計產品指定主視圖為授權后公告視圖。
- 專利類型外觀專利
- 申請人安方高科電磁安全技術(北京)有限公司;
- 發明人馬占義;曹剛;王彪;于天榮;郭林;
- 地址100094 北京市海淀區中關村永豐產業基地豐德東路9號
- 申請號CN201230625189.5
- 申請時間2012年12月13日
- 申請公布號CN302467934S
- 申請公布時間2013年06月12日
- 分類號14-03;
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